فوتولیتوگرافی یا photolithography توسط ابزار ماسک الاینر Mask Aligner یکی از روشهای انتقال طرح و الگو از ماسک به سطح زیر لایه که در ساخت ادوات میکرو و نانومتری و میکروفلوئیدیک استفاده میشود میباشد که قابلیت حرکت نمونهها با دقت نانومتری را دارند و در اتاق تمیز دانشگاه صنعتی شریف یک دستگاه ماسک الاینر نیمه اتوماتیک که فرآیند تطبیق نمونه و ماسک و نوردهی را به صورت اتوماتیک انجام میدهد قرار گرفته است. با بهرهگیری از میکروسکوپ دیجیتال دقیق و متصل به سیستم کامپیوتری امکان تطبیق ویفر و ماسک وجود دارد.
دستگاه ماسک الاینر Photolithography
آزمون لیتوگرافی ماسک الاینر
آزمایشگاه: اتاق تمیز ساخت قطعات میکرو و نانومتری
وضعیت دستگاه: فعال و آماده خدمت
برند: فناوران ذرات احسان تک
قابلیت تطبیق در صفحه XYZ
قابلیت گیرش زیرلایه و ماسک توسط خلاء
قابلیت Motorized بودن و نیمه اتوماتیک
قابلیت لیتوگرافی با دقت 1 میکرون، 10 میکرون و Backside
امکان کنترل پارامترهای دستگاه توسط رایانه و نرم افزار مخصوص
تنظیم زمان و شدت UV در سیستم نوردهی و شدت تابش نور به صورت PWM